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深圳赓旭光电科技有限公司

光学元件、激光光学元件、光学镀膜

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阐述光学干涉滤光片镀膜
发布时间:2018-07-02        浏览次数:86        返回列表
深圳市赓旭光电科技有限公司成立于2007年,赓旭光电是业内知名滤光片光学透镜棱镜生产生产厂家,专注于窄带滤光片带通滤光片长波通滤光片短波通滤光片中性密度滤光片分光镜反射镜增透膜亚克力窗口片平凸透镜平凹透镜双凸透镜双凹透镜紫外滤光片可见光滤光片近红外滤光片等光学镀膜产品的研发、生产加工、销售,产品广泛于光学成像,摄影器材,激光测距,机器视觉等领域,10年的积累,拥有一批实践经验丰富的研发团队和生产人员,通过不断的发展,公司拥有多台国内外先进镀膜设备和品质检验设备,可大规模的批量生产。


 光学薄膜是大块材料经过固相——液相——气相——固相或固相——气相——固相转化后在基板上凝聚而成的,因而它的微观结构、晶体结构以及薄膜成分都会与原始块状材料不同。
 
 
 绝大多数金属几乎都是以原子形式蒸发的,但是对于一些半导体和半金属,它们多是以2个或2个以上的原子集合体逸出的。因为Sb的4个原子几乎是以相似的共价键相结合,故Sb膜中主要含Sb4,同时混入Sb2和少量Sb。As多为As4和As2,Bi和Te含有相当多的Bi2和Te2,在C,Ce,Se和Si中也都观察到类似的集合体。
 
 
 化合物的情况更加复杂。对于硫属化合物,蒸发时材料是分解的,例如,2ZnS→2Zn+S2。但它们在基板上又重新化合了,因而仍能得到化学计量与块状材料近似一致的膜层。CdTe也分解为Cd和Te2。同样,氟化物也会引起不同程度的失氟,失氟后的膜层吸收潮气能力提高。这种失氟现象与蒸发源密切相关,采用大容量的辐射蒸发源可得到与块状化学计量近似一致的膜层。在蒸发氧化物时,可观察分解的O2,即使是稳定的SiO2也包含着SiO和O2.失氧严重的是TiO2,Ta2O5和NiO等,相比之下,MgO,Al2O3,BeO和CoO2几乎接近于块状材料。
 
 
 溅射也包含着大量的复合原子。离子加速电压越高,溅射的单原子越少,以溅射Cu膜为例,对多晶Cu靶,Ar+的加速电压为100eV时,只有5%左右的Cu,其余都是Cu2.对单晶Cu(100)靶,出Cu和Cu2外,还有Cu+n(n=1~11)。用Ar+和Xe+溅射Al,也可以分别观察到Aln(n=1~7)和Aln(n=1~18)。用Ar+溅射化合物GaAs,溅射出来的99%是Ga和As的中性原子,其余才是GaAs分子。
 光学薄膜化学成分的分析主要借助于表面分析技术。所谓表面分析技术通常就是用光子、电子或离子作为一次粒子轰击待分析的样品表面,粒子与固体表面相互作用,结果将引起激发粒子的放射,即二次粒子,利用这种激发和放射过程就能鉴定表面和薄膜的化学成分。